Imatge directa per làser (LDI)

La litografia sense màscara es pot realitzar mitjançant LDI. Té molts avantatges en la resolució d'imatges, la precisió d'alineació, el rendiment del producte, l'automatització, etc. La qual cosa està substituint ràpidament els mètodes tradicionals de producció d'exposició a màscares. La impressió 3D de materials com ara polímers i ceràmiques també es pot realitzar mitjançant LDI.

Han's TCS pot subministrar sistemes làser semiconductors de 405 nm als fabricants de dispositius LDI. Basant-nos en xips d'alta qualitat, podem garantir l'estabilitat i la uniformitat de l'energia d'exposició, tecnologia avançada i un rendiment excel·lent. Tenim molts clients en equips LDI i una àmplia experiència en aplicacions industrials.

Com a fabricant líder de díodes i sistemes làser semiconductors a la Xina, Han's TCS ha assolit el nivell de lideratge internacional en tecnologia d'encapsulat de díodes làser semiconductors i acoblament de fibra. Oferim sistemes làser de 405 nm amb múltiples nivells de potència de 12 W, 24 W, 30 W, 50 W i 100 W per a la indústria LDI.

Tecnologia d'acoblament de feix espacial.

Una sortida de fibra, alta potència i alta brillantor.

Mode de control flexible: analògic / RS232.

Sistema de refrigeració per aigua eficient.

Alta eficiència de conversió electroòptica, baix consum d'energia.

Lleuger i compacte, fàcil de mantenir.

Sobrecorrent, sobretensió, sobretemperatura i altres mesures de protecció múltiples.

El mòdul de font de llum acobla els feixos de llum de múltiples xips de llum a una fibra òptica mitjançant la tecnologia d'acoblament de feixos espacials. El diàmetre del nucli de la fibra és de 400 μm o 600 μm, i la qualitat del feix és bona, la brillantor és més alta i l'estabilitat és més forta.

El sistema adopta un disseny de fibra òptica desmuntable, equipat amb cables de connexió de fibra òptica altament fiables i de fàcil manteniment.